等離子鍍膜設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)：

　　1、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國(guó)進(jìn)口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計(jì)，使液態(tài)分子極精細(xì)，且不影響藥水效果。

　　2、恒定流量控制系統(tǒng)，保證藥水平穩(wěn)恒定的供流，而非波浪線式供流，解決白霧現(xiàn)象。

　　3、控制噴涂藥量，提高藥水的霧化能力，使膜層與玻璃能均勻的結(jié)合，提高產(chǎn)品噴涂的均勻性，增大膜層表面爽滑度。

　　4、噴嘴運(yùn)動(dòng)速度及輸送線速度均可調(diào)，極大的提高生產(chǎn)效率，滿足各種用戶需求。

　　5、理論設(shè)計(jì)產(chǎn)能3000片-4000片/小時(shí)。

　　6、采用雙等離子處理，鍍膜前對(duì)工件進(jìn)行清潔處理，降低工件本身附帶的雜質(zhì)，使玻璃表面與膜層發(fā)生附和反應(yīng)，提高膜層結(jié)合的牢固度，提升產(chǎn)品的抗老化以及耐摩擦能力，使鍍膜品質(zhì)更高。

　　表面清潔：對(duì)于C,O臟污(有機(jī)物)，大氣等離子有很強(qiáng)洗凈效果（氧化反應(yīng))

　　表面活性化：等離子分解分子結(jié)合材料、形成OH基=活性效果。

　　表面粗面化：等離子粒子以NM單位破壞表面=粗面效果。

　　特別提示：等離子鍍膜設(shè)備主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95%N2對(duì)真空腔體清洗，可有效減少真空腔體中的氧含量請(qǐng)用純度大于5N的Ar來(lái)進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)。