高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用前開門真空室設(shè)計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離有較大的調(diào)節(jié)范圍，可適應多種蒸發(fā)要求，避免樣品在蒸發(fā)源中高處損壞。

　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發(fā)源和水冷銅電極。每個蒸發(fā)源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現(xiàn)多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設(shè)備真空系統(tǒng)為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統(tǒng)，可提供潔凈無油的高真空環(huán)境。該設(shè)備配有氣動閥門系統(tǒng)。通過操作系統(tǒng)的自動控制，用戶可以通過觸摸屏進行一鍵抽真空、不停機采樣、*關(guān)機等操作。

　　蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達1800℃，可滿足各種普通金屬的蒸發(fā)和部分非金屬的蒸發(fā)。真空室由非不銹鋼制成。出廠時已脫氣，配合分子泵組可達到極限真空，可滿足大部分物料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。真空室采用翻蓋式開啟方式，取放方便。腔體設(shè)有帶擋板的自適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板可有效防止觀察窗被薄膜材料污染。

　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一個多功能系統(tǒng)，具有靈活性和模塊化可擴展性，可適應不同的樣品制備。它可用于從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件蒸發(fā)中蒸發(fā)碳和金屬?？梢詰靡幌盗薪?jīng)過驗證的技術(shù)，包括碳涂層和TEM涂層、碳/金屬蒸發(fā)、使用雙源蒸發(fā)的小角度和順序涂層，并且可選的濺射涂層附件可以應用于各種目標。

　　1、采用微處理器控制器，提高了系統(tǒng)的靈活性，用戶可以方便地添加各種選項。但是，這些“默認”操作已經(jīng)過優(yōu)化，因此可以實現(xiàn)自動和手動操作。

　　2、*的抽屜式上樣系統(tǒng)，方便用戶放入各種樣品，鉸接式頂蓋結(jié)構(gòu)方便到達系統(tǒng)其他區(qū)域。

　　3、渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外，蒸發(fā)鍍膜儀安裝更換方便。它的前置真空是旋轉(zhuǎn)真空泵。整個抽氣過程是全自動的，達到高真空后會蒸發(fā)。儀器為臺式，使用中疏忽易控制，易損壞。