多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設(shè)備，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射，在高純氬氣保護下也可用于各種離子處理。本設(shè)備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本儀器配備機械泵和分子泵，分子泵系統(tǒng)特別適用于對真空度要求高、真空環(huán)境好的用戶。

　　

　　多功能試樣表面處理機將硅片放入真空反應(yīng)系統(tǒng)，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，從而形成強電磁場石英管中，氧氣被電離，形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電子混合而成的等離子體輝光柱。活性氧（活性原子氧）能迅速將聚酰亞胺薄膜氧化成揮發(fā)性氣體，通過機械泵抽走，從而去除硅片上的聚酰亞胺薄膜。等離子脫膠的優(yōu)點是脫膠操作簡單，脫膠效率高，表面清潔光滑，無劃痕，成本低，環(huán)保。

　　

　　在并聯(lián)電極反應(yīng)器中，反應(yīng)離子刻蝕室采用非對稱設(shè)計，陰極面積小，陽極面積大，被蝕刻物放置在面積較小的電極上。在射頻電源產(chǎn)生的熱運動下，帶負電的自由電子質(zhì)量小，運動速度快，迅速到達陰極；正離子由于質(zhì)量大，速度慢，不能同時到達陰極，從而在陰極附近形成帶負電的鞘層。在鞘層的加速作用下，正離子垂直轟擊硅表面，加速硅表面的化學(xué)反應(yīng)和反應(yīng)產(chǎn)物的分離，產(chǎn)生很高的刻蝕速率。離子轟擊也可以實現(xiàn)各向異性刻蝕，與等離子脫脂、等離子刻蝕相同，區(qū)別在于反應(yīng)氣體的種類和等離子體的激發(fā)方式。

　　

　　對于制膜，多功能試樣表面處理機可以設(shè)置三種模式：

　　

　　1、一種模式專門用于蒸鍍

　　

　　本儀器可同時蒸發(fā)兩種物料，最高溫度可達1800℃

　　

　　鎢絲加熱

　　

　　2、碳蒸發(fā)鍍膜方式

　　

　　該儀器包括兩組碳棒

　　

　　3、DC等離子濺射模式儀器含金靶(38mmdiax0.2mmt)